• 聚胺脂拋光墊 ：
o 平坦化優勢：具備優異的剛性與微孔結構，能精確控制工件的 TTV (總厚度變異)，是 CMP 與精密平面研磨的首選。
o 耐化學侵蝕：針對多種酸鹼研磨漿料 (Slurry) 具有高穩定性，延長墊材使用壽命。
• 不織布拋光墊 ：
o 卓越緩衝性能： 纖維結構具備高度彈性與回彈力，能均勻分散拋光壓力，適合處理大面積或對應力敏感的材料。
o 高儲液量 ：獨特多孔隙設計能有效儲存並均勻分佈研磨液，確保加工過程的一致性與連續性。
• 絨毛拋光墊 ：
o 極致鏡面效果：極細緻複合絨毛材質，專為最終精拋 (Final Polishing) 設計，能有效消除微刮傷與表面瑕疵。
o 高貼合度：柔軟材質能完美貼合各種幾何表面，確保壓力分佈極其均勻。